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                MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

                  MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

                MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,特別適用于外層電鍍的應用。特別針對高可能一次合格率而設計,在蓋孔&蝕刻和酸性電鍍工藝中有出色的性能。

                特色及優點

                極好的貼合度-高良率

                蓋孔能力優異

                顯影后邊墻垂直/電鍍后邊墻垂直

                顯影泡沫少

                高解析度、高附著力

                應用于酸性鍍銅和鎳金工藝時無滲鍍現象

                化學物質滲漏少

                堿性褪膜性能好-膜屑顆粒小

                堿性褪膜速度快

                項目
                單位
                MAH220
                MAH215
                備注
                厚度
                μm
                50
                38

                感度*1
                mj/cm2
                40
                30

                最短顯影時間
                sec.
                32
                25

                附著力*1*2(L/S=X/250)
                μm
                30
                25

                解析度*1*2(L/S=X/X)
                μm
                30
                25

                蓋孔孔徑
                μm
                7.5
                6.5

                *1:MAH215(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

                *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

                *3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。



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