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    LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

      LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

    LEF300 鐳射系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,應用于內外層線路制作,特別適用于365mm波長、405nm波長或365nm 和 405nm激光直接成像系統。在酸性蝕刻以及電鍍工藝中有出色的性能。

    特色及優點

    高解析度 -1-2 mil 線寬/線距

    曝光速度快

    附著力好

    抗化學性好

    性能穩定

    項目
    單位
    LEF312
    LEF315
    備注
    厚度
    μm
    30
    38

    感度*1
    mj/cm2
    9
    12

    最短顯影時間
    sec.
    20
    22

    附著力*1*2(L/S=X/250)
    μm
    25
    30

    解析度*1*2(L/S=X/X)
    μm
    25
    30

    蓋孔孔徑
    μm
    //
    6.0

    *1:LEF315(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

    *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

    *3:3mils SEM圖像。



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