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                LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

                  LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

                LEF300 鐳射系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,應用于內外層線路制作,特別適用于365mm波長、405nm波長或365nm 和 405nm激光直接成像系統。在酸性蝕刻以及電鍍工藝中有出色的性能。

                特色及優點

                高解析度 -1-2 mil 線寬/線距

                曝光速度快

                附著力好

                抗化學性好

                性能穩定

                項目
                單位
                LEF312
                LEF315
                備注
                厚度
                μm
                30
                38

                感度*1
                mj/cm2
                9
                12

                最短顯影時間
                sec.
                20
                22

                附著力*1*2(L/S=X/250)
                μm
                25
                30

                解析度*1*2(L/S=X/X)
                μm
                25
                30

                蓋孔孔徑
                μm
                //
                6.0

                *1:LEF315(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

                *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

                *3:3mils SEM圖像。



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